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国内刊号：43-1104/TD
国际刊号：0253-6099
发布日期:
作者：张盼阳, 王庆福, 李谋翠, 樊斌锋, 王绪军, 金淑苗
单位：1.灵宝宝鑫电子科技有限公司，河南 灵宝 472500;2.河南高精铜箔产业技术研究院有限公司，河南 灵宝 472500
关键词：锂电铜箔,集流体,响应面分析法,抛光电流,阴极辊,在线抛光
基金：河南省重点研发专项(231111241000)
利用单因素实验探究了抛光刷转动速度、横向摆动速度及抛光电流对铜箔性能及针孔的影响，并在单因素实验基础上应用响应面分析法优化抛光工艺，进而改善铜箔性能及表观质量。结果表明，抛光刷转动速度450 r/min、横向摆动速度350 r/min、抛光电流0.50 A时，生成的铜箔光面(S面)均一，且针孔缺陷明显减少。
来源：2024年第4期
《矿冶工程》期刊编辑部
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