国内刊号:43-1104/TD
国际刊号:0253-6099
发布日期:
作者:李伟, 余志明, 魏秋平, 夏鑫
单位:1.中南大学 材料科学与工程学院,湖南 长沙 410083; 2.湖南普照信息材料有限公司,湖南 长沙 410205
关键词:铬膜,镀膜,匀胶铬板,直流磁控溅射,针孔缺陷,良率
采用直流磁控溅射镀膜法在石英玻璃衬底制备铬膜,利用SEM和EDS对铬膜层的针孔及周围分别进行了形貌和元素表征,研究了膜层针孔缺陷的成因及管控方法。结果表明,在匀胶铬板生产过程中,不稳定的基片表面会吸附环境中的粉尘颗粒、细菌等杂质,阻挡铬膜的沉积,在杂质去除后形成针孔。采取了以下管控措施: 镀膜前采用浓度3%H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>对清洗机泡槽4 h; 严格遵守操作规范; 加强镀膜机的卫生处理。管控措施实行4个月后,针孔平均密度由之前的7.04个/片减少到3.36个/片,针孔良率提高了约10%。
来源:2021年第2期
《矿冶工程》期刊编辑部